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蚀刻与PECVD技术探索纳米技术 1
 
 

纳米技术

纳米技术就是研究和使用原子或分子尺度的材料。纳米技术典型的尺寸是小于100纳米,并有可能创造出许多新材料和应用于医药、电子和能源生产领域的设备。

通过利用光掩膜、 DSE™ 和其他核心技术,以及深入理解纳米级的重要尺寸,Plasma-Therm 将继续满足不断增长的纳米技术市场的需求。

凭借在纳米技术领域的强有力的合作历史,以及研发市场领域的广泛发展, Plasma-Therm 帮助客户达成他们的研究目标。

典型应用

  • 光栅

  • 通道

  • 阵列(如有图案的媒体)

  • 薄膜栈

  • 高深宽比结构

  • 低温沉积

可控的蚀刻光栅和阵列是通过III - V族材料的低功耗流程实现的。

石英材料的纳米压印结构是利用Plasma-Therm 广泛的光掩膜计划的相关知识实现的。

对于纳米结构的沉积,Plasma-Therm 拥有低温PECVD流程,包括氮化硅、氧化硅、氧氮化物和无定形硅。

各种应用配套的流程之所以能够实现,是因为Plasma-Therm设备有多种选择。例如,Plasma-Therm 系统跨度大,从大气负荷到大格式盒到盒都有。

每个系统针对不同的流程化学提供了不同纬度,最大限度地减小系统改造。

产品

 

 

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如需了解更多信息,请联系我们 information@plasmatherm.com或致电 +1.727.577.4999 或致电1.727.577.4999

 

   
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